光刻胶又称抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、Ｘ射线等的照射或辐射，其性质发生变化的耐蚀刻薄膜材料。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶(包括紫外正性光刻胶、紫外负性光刻胶)、深紫外光刻胶、电子束胶、Ｘ射线胶、离子束胶等。
AR-N 4400紫外光刻胶具有感光波段：i-line(365nm)、g-line(436nm)、化学放大胶，具有非常高的灵敏度、高分辨率、高对比度的特点，得到的undercut结构，用于lift-off工艺及集成电路加工、lift-off工艺、激光干涉曝光等。
电子束光刻胶 ma-N 2400 MR-EBL 6000系列
光刻胶 SPR 955
mr-EBL 6000系列 负性光刻胶
高聚物SU-8光刻胶
PermiNex 1000系列 负性光刻胶
SU-8 3050 负性光刻胶
SU-8 2002 2015 2050光刻胶
SU-8 3010 负性光刻胶
SU-8 3035 3025光刻胶
瑞禧WFF.2022.6
